设备名称：高真空多功能磁控溅射设备
所属实验室：功能材料实验室

规格、型号：MultiMode/NS3A

产地：辽宁聚智科技有限公司

购置日期：2009年8月

价格：36.7万RMB

主要技术指标（性能指标）：

1、基片尺寸：≤Φ2英寸，基片加挡板。可加负偏压－200V。

2、基片加热器温度：室温～500℃±1℃。

3、基片架公转速度0～20转/分，可控可调。

4、基片架可加热、可水冷、可旋转、可升降。

5、靶面到基片距离50～90mm可调，有调位显示。

6、Ф2英寸圆形平面磁控溅射永磁靶，靶头可调角度；可镀铁磁材料的磁控溅射靶1支，可镀普通靶材的磁控溅射靶2支；靶材尺寸Ф2英寸。

7、镀膜室极限真空：﹤10^-5Pa，恢复工作背景真空6×10^-4Pa：35分钟左右（充干燥氮气）。

8、磁控溅射靶电源：射频源 500W、13.56MHz；直流溅射电源，1000W。

主要用于领域（适用范围、测试范围）：

可用于制备各种单层或多层的半导体膜、反应膜、绝缘膜、磁记录膜、光记录膜、透明导电膜、高温超导膜等，并可在异形体表面进行镀膜。适合于科研院所的教学研究以及中小型企业镀膜生产之用。

存放地点：珠宝楼B401

管理人员：靳化才

联系电话：67883737