设备名称:高真空多功能磁控溅射设备
所属实验室:功能材料实验室
规格、型号:MultiMode/NS3A
产地:辽宁聚智科技有限公司
购置日期:2009年8月
价格:36.7万RMB
主要技术指标(性能指标):
1、基片尺寸:≤Φ2英寸,基片加挡板。可加负偏压-200V。
2、基片加热器温度:室温~500℃±1℃。
3、基片架公转速度0~20转/分,可控可调。
4、基片架可加热、可水冷、可旋转、可升降。
5、靶面到基片距离50~90mm可调,有调位显示。
6、Ф2英寸圆形平面磁控溅射永磁靶,靶头可调角度;可镀铁磁材料的磁控溅射靶1支,可镀普通靶材的磁控溅射靶2支;靶材尺寸Ф2英寸。
7、镀膜室极限真空:﹤10-5Pa,恢复工作背景真空6×10-4Pa:35分钟左右(充干燥氮气)。
8、磁控溅射靶电源:射频源 500W、13.56MHz;直流溅射电源,1000W。
主要用于领域(适用范围、测试范围):
可用于制备各种单层或多层的半导体膜、反应膜、绝缘膜、磁记录膜、光记录膜、透明导电膜、高温超导膜等,并可在异形体表面进行镀膜。适合于科研院所的教学研究以及中小型企业镀膜生产之用。
存放地点:珠宝楼B401
管理人员:靳化才
联系电话:67883737