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磁控溅射仪
 

设备名称:高真空多功能磁控溅射设备
所属实验室:功能材料实验室

规格、型号MultiMode/NS3A

产地:辽宁聚智科技有限公司

购置日期20098

价格36.7RMB

主要技术指标(性能指标)

1、基片尺寸:≤Φ2英寸,基片加挡板。可加负偏压-200V

2、基片加热器温度:室温~500±1

3、基片架公转速度020/分,可控可调。

4、基片架可加热、可水冷、可旋转、可升降。

5、靶面到基片距离5090mm可调,有调位显示。

6Ф2英寸圆形平面磁控溅射永磁靶,靶头可调角度;可镀铁磁材料的磁控溅射靶1支,可镀普通靶材的磁控溅射靶2支;靶材尺寸Ф2英寸。

7、镀膜室极限真空:﹤10-5Pa,恢复工作背景真空6×10-4Pa35分钟左右(充干燥氮气)。

8、磁控溅射靶电源:射频源 500W13.56MHz;直流溅射电源,1000W

主要用于领域(适用范围、测试范围)

可用于制备各种单层或多层的半导体膜、反应膜、绝缘膜、磁记录膜、光记录膜、透明导电膜、高温超导膜等,并可在异形体表面进行镀膜。适合于科研院所的教学研究以及中小型企业镀膜生产之用。

存放地点:珠宝楼B401

管理人员:靳化才

联系电话67883737


 
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